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Design for Manufacturability with Advanced Lithography

89.99 CHF

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Artikel-Nr.: 10442013

Beschreibung

Introduction.- Layout Decomposition for Triple Patterning.- Layout Decomposition for Other Patterning Techniques.- Standard Cell Compliance and Placement Co-Optimization.- Design for Manufacturability with E-Beam Lithography.- Conclusions and Future Works.-

Eigenschaften

Breite:	162
Höhe:	242
Länge:	16
Seiten:	164
Sprachen:	Englisch
Autor:	Bei Yu, David Z. Pan

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